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雷射束和锡滴轨迹监测，闭环控制算法的响应时间可以做到微秒级。但是陈总，如果控制失效，放电失控……」
「整个光学腔体可能会被电弧击穿，损失数百万美元的核心镜组。」陈醒平静地说出了最坏的结果，「所以这个决定需要你来下，金博士。你是这个项目的负责人，最了解系统的极限。」
实验室里落针可闻。所有人都看着金秉洙。
这位在EUV领域奋战了二十年的老工程师，此刻脸上每一道皱纹都在诉说挣扎。他闭上眼睛，脑海里闪过无数画面：五年前项目启动时的雄心壮志，三年前第一次点亮EUV光的狂喜，一年前稳定度突破98%时的热泪盈眶……还有那些在实验室里度过的不眠之夜，那些年轻工程师们熬红的双眼。
他睁开眼睛，看向团队里那些年轻的面孔，章晴正紧张地咬着嘴唇，手里无意识地转动着一支电子笔；负责雷射系统的女工程师李悦手指在虚拟键盘上悬停，等待指令；还有刚从德国回来加入团队的博士后小王，眼里满是跃跃欲试的火焰。
这些年轻人把最好的年华赌在了这个项目上。如果因为保守而延误了「深红路线图」，他们可能会错过一个时代。
「干。」金秉洙的声音不大，但异常坚定，「我们做原位诊断，确认故障性质。如果是电极问题，就按陈总的方案来。控制系统我来负责设计，给我……六小时。」
「四小时。」陈醒看了一眼墙上的时钟，「现在是凌晨四点四十五分。上午九点前，我要看到诊断结果和初步控制方案。十点，我们开决策会。」
命令下达，实验室瞬间进入高速运转状态。
章晴带领建模组紧急开发雷射诱导击穿光谱的反演算法；李悦团队重新编程微透镜阵列控制系统，为第七束雷射设计复杂的空间扫描路径；金秉洙则把自己关在小会议室里，在白板上疯狂推导电场补偿控制方程。
陈醒没有离开。他坐在实验室角落的一把椅子上，面前摊开着「深红路线图」中关于EUV整机集成的章节。但他没有看文件，而是闭着眼睛，仿佛在聆听设备冷却系统低沉的嗡鸣，又仿佛在等待着什麽。
早上七点半，第一组诊断数据出炉。
高速光谱仪捕捉到了清晰的碳特徵峰和微量的钼元素峰，第四高压电极的氧化铝绝缘层确实发生了热致碳化，并且有基底钼电极材料通过微观裂纹迁移至表面。介电常数测量更证实了绝缘性能下降了约40%。
「和您的判断完全一致。」金秉洙将报告递给陈醒，语气里带着敬佩，「现在的问题是，这个『起搏器』方案，具体参数怎麽定？放电电流多大？反馈控制带宽多少？最重要的是，安全边界在哪里？」
陈醒接过报告快速浏览，然后走到控制台前，调出电极的三维模型：「绝缘层碳化最严重的区域在这里，距离主光路3.7毫米。我们需要在这里建立一个局部的丶稳定的辉光放电等离子体区。」
他在屏幕上画出一个扁平的椭球区域：「放电电流控制在0.5到2毫安之间，通过调节脉冲占空比来改变等效电流。电场传感器数据每10微秒采样一次，控制算法响应延迟必须小于50微秒。安全边界……设定为放电区域边界距离最近光学元件不得小于2毫米，一旦监测到距离小于1.5毫米，立即切断高压，停机保护。」
「明白了。」金秉洙开始将参数输入控制软体，「我们会先在低功率模式下测试，逐步升高。」
上午八点五十分，系统重启准备就绪。
所有人都屏住呼吸。主控屏幕上，代表第四电极放电电流的曲线从零开始缓缓上升。0.1毫安丶0.2毫安……当电流达到0.5毫安时，监控画面显示电极表面出现了微弱的蓝紫色辉光。
「放电稳定，无闪烁现象。」李悦汇报。
「电场畸变监测。」陈醒下令。
另一块屏幕上，原本扭曲的电场分布图开始发生变化。那个因绝缘漏电产生的「凹陷」区域，在放电电场的补偿下，正缓慢地被「填平」。
「畸变率从17%下降至9%……5%……2%！」章晴的声音带着难以置信的激动，「雷射束同步偏差恢复正常！锡滴击中率回升至98.3%！」
「逐步提升EUV输出功率。」金秉洙的声音沉稳，「5%丶10%丶20%……回归额定功率。」
巨大的嗡鸣声重新响起，但这一次，主控屏幕上那条绿色的稳定度曲线，在经历短暂波动后，开始坚定地向上爬升。
97.1%丶97.5%丶97.9%……
上午九点十八分，曲线稳稳地停在了98.0%，并在小数点后两位的范围内轻微波动。
实验室里爆发出压抑的欢呼。年轻工程师们相互击掌，有人甚至偷偷抹了抹眼角。
但陈醒和金秉洙都没有笑。他们盯着那条曲线，等待它更长时